Elektron Işın Litografisi


Marka / Model 

Raith Pioneer

Özellikler

Filaman tipi: Tungsten, LaB6
Numune seyahat aralığı: 50 x 50 x 25 mm
Işın boyutu (çözünürlük): ≤ 2.5 nm (≤ 1.6 nm)
Minimum özellik boyutu: ≤ 20 nm
İşleme alanı: ≤ 50 (60) nm (m + 2σ)
Kaplama doğruluğu (hizalama): ≤ 50 (60) nm (m + 2σ)
Işın akımı kayması: ≤% 0.5 / 1 saat
Yazma hızı: 2,5 MHz

Amaç 

Elektron Işını Litografi (EBL), kullanıcıların nano boyutta yüksek çözünürlükte desenler yazmalarını sağlar. Odaklanmış elektron ışınları, bir CAD dosyasında tanımlanan bir desene göre elektron duyarlı bir polimer ile kaplanmış bir numune üzerinde tarama yapar. Numune daha sonra, polimer içinde tanımlanan yapıları ortaya çıkaran uygun bir çözücü içinde kimyasal işleme maruz bırakılır. Bu sayede nano boyutlu mimariler geliştirilir.

 

 

Örnek Teslim Şartları: 

 

 

İletişim: 

EMUM fiyat kataloğu için tıklayınız.
Endüstriyel hizmet başvuru dilekçesi için tıklayınız.

Yetkili: Cesim Narmanoğlu – Numune Kabul Birimi | Telefon: 0232 301 90 10 | E-Posta: cesim.narmanoglu@deu.edu.tr

EMUM Sekreterlik | Telefon: 0232 301 90 01 | E-Posta: emum@deu.edu.tr