Selçuk Bayraktar İnce Film Laboratuvarı
Selçuk Bayraktar İnce Film Laboratuvarında Bulunan Cihazlar:
- UV-Vis Spektrofotometre (Katı numuneler)
- Darbeli Lazer Biriktirme (PLD)
- Magnetron Saçtırma Sistemleri
- Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)
- Atmosfer Kontrollü Kabin
- Elektron Işın Litografisi
- X-Işını Fotoelektron Spektroskopisi (XPS)
Marka / Model
SHIMADZU UV-2600i
Özellikler
Lamba: Halojen & Döteryum
Detektör: Photomultiplier R-928
Tarama hızı: 0.5 – 4000 nm/dk
Dalga boyu aralığı: 185 to 1400 nm
Spektral bantgenişliği: 0.1, 0.2, 0.5, 1.0, 2.0, 5.0 nm
Amaç
UV ve görünür bölge
aralığında geçirgenlik, sönümleme ve yansıtma
gibi optik özelliklerin tayin edilmesi
için kullanılmaktadır.
Başvuru İçin Tıklayınız
Marka / Model
Neocera EX350
Özellikler
Altlık Boyutu: 10mm x 10mm ile Ø 50,8 mm
Biriktirme Oda Boyutu: Ø 457,2 mm
Vakum: 5 x 10-7 Torr standart
UHV Yükseltmeleri ile 5 x 10-9 Torr
Altlık Sıcaklığı: 850 °C (maks.)
Çoklu Hedef Tutucu: 6 x 1 inç veya 3 x 2 inç
Kütle Akış Kontrolleri: Oksijen için bir MFC standart, opsiyonel ilaveler
Amaç
Darbeli Lazer Biriktirme (PLD) sistemi, çoklu hedefleri ve alt tabakaları tutabilen yüksek bir vakum odasına sahip bir 248nm Kripton Flor lazeri içeren sağlam ve çok yönlü bir ince film kaplama sistemidir. Lazer, GAM lazer tarafından üretilir. Böylece PLD sisteminin temel çalışma prensipleri şöyledir: KrF lazerinden 248 nm dalgaboylu ışık örnek odasına girer ve hedefi vurur. Hedeften malzeme saçtırılır ve bu malzeme altlığa doğru hareket eder. Lazer ışığı, 1 ile 20 Hz arasında, 1,1 J/cm² kadar yüksek akıcılık değerleriyle atım yapar. Ablasyon sırasında hedef, hedefin eşit şekilde ablasyon yapmasını sağlamak için lazer ışığı altında ileri geri hareket eder. PLD cihazı, altlık üzerinde YBCO süper iletken vb. hedef malzemeler ile aynı bileşimli ince filmlerin hassas bir şekilde biriktirilmesi için kullanılır.
Başvuru İçin Tıklayınız
Marka / Model
Torr International CRC-600
Özellikler
Biriktirme Kazanı : 20 x 24 inç
Vakum Seviyesi: 10-7 Torr
Numune Boyutu: Ø 4 inç (maks.)
Akış Kontrolcüsü: Ar için bir adet
Katod: Bir adet, Ø 2 inç
Güç Kaynağı: DC
Kalınlık Ölçüm Birimi: 1-4 QCM ile 0,1Å/s
Amaç
DC güç kaynaklı magnetron saçtırma sistemi metal türdeki ince filmleri, ITO kaplı PET, ITO kaplı CAM, cam, kuartz, silikon vb., çeşitli altlıklar üzerinde üretmek için kullanılmaktadır.
Marka / Model
Nanovak NVTH-350
Özellikler
Biriktirme Kazanı : 33 x 33 x 37,5 cm
Vakum Seviyesi: 10-7 Torr
Numune Boyutu: Ø 4 inç (maks.)
Numune Isıtma: Oda. sıc. – 300 °C
Numune Döndürme: Evet
Akış Kontrolcüsü: Ar için bir adet
Katod: Bir adet, Ø 2 inç
Güç Kaynağı: RF güç kaynağı,
13,56 MHz, 300W
Kalınlık Ölçüm Birimi: 1-4 QCM ile 0,1Å/s
Amaç
RF güç kaynaklı magnetron saçtırma sistemi metaller, yarıiletkenler, dielektrikler, transparan oksit iletkenler vb., farklı türdeki ince filmleri, ITO kaplı PET veya cam, silikon vb., çeşitli altlıklar üzerinde üretmek için kullanılmaktadır.
Başvuru İçin Tıklayınız
Marka / Model
FirstNano EasyTube 101
Özellikler
Yüzey alanı: 25 mm x 50 mm
Fırın: 1200 ° C ’ye kadar sıcaklıklar
için 3 bölgeli rezistans fırın
Kontrol: CVDWinPrC ™ proses kontrol
Gaz Hatları: MFC kontrollü
Amaç
Kimyasal buhar biriktirme (CVD), farklı türdeki başlangıç malzemelerinden yüksek kaliteli katı malzemeler üretmek için kullanılan bir biriktirme yöntemidir. İşlem, yarı iletken endüstrisinde ince filmler üretmek için kullanılmaktadır.
Başvuru İçin Tıklayınız
Marka / Model
MBraun MB200B
Özellikler
Boyutlar: 3200 x 780 x 920 mm (G x D x Y)
Eldiven Sayısı: 5 eldiven
Dış oda boyutu (büyük): 390 x 600 mm (çap x uzunluk)
Ulaşılabilir saflık seviyesi: H2O < 1 ppm, O2 < 1 ppm
Cihazlar
Spin kaplama
Termal buharlaştırma
Amaç
Glove Box, koruyucu ve kontrollü atmosfer altında yapılması gereken işlemler için geliştirilmiş, belli boyutlardaki sızdırmaz bir kaptır. Üzerine yerleştirilmiş eldivenler sayesinde kullanıcının kap içerisine müdahale edip işleri yapabileceği şekilde tasarlanmıştır.
Başvuru İçin Tıklayınız
Marka / Model
Raith Pioneer
Özellikler
Filaman tipi: Tungsten, LaB6
Numune seyahat aralığı: 50 x 50 x 25 mm
Işın boyutu (çözünürlük): ≤ 2.5 nm (≤ 1.6 nm)
Minimum özellik boyutu: ≤ 20 nm
İşleme alanı: ≤ 50 (60) nm (m + 2σ)
Kaplama doğruluğu (hizalama): ≤ 50 (60) nm (m + 2σ)
Işın akımı kayması: ≤% 0.5 / 1 saat
Yazma hızı: 2,5 MHz
Amaç
Elektron Işını Litografi (EBL), kullanıcıların nano boyutta yüksek çözünürlükte desenler yazmalarını sağlar. Odaklanmış elektron ışınları, bir CAD dosyasında tanımlanan bir desene göre elektron duyarlı bir polimer ile kaplanmış bir numune üzerinde tarama yapar. Numune daha sonra, polimer içinde tanımlanan yapıları ortaya çıkaran uygun bir çözücü içinde kimyasal işleme maruz bırakılır. Bu sayede nano boyutlu mimariler geliştirilir.
Başvuru İçin Tıklayınız
Marka / Model
Thermo Scientific K-Alpha
Özellikler
Analizör: 180° çift odaklama yarım küre
Dedektör: 128 kanal
Monkromatör: Al Kα mikro odaklı
Değişken spot büyüklüğü: 5 μm adımda 30-400 μm
Işın kaynağı: Çift kaynak
Elektron ışını: Ultra düşük enerjili
Veri sistemi: Avantage
İyon tabancası enerji aralığı: 100 eV – 4 keV
Örnek aşaması: 4 eksenli
Numune alanı: 60 × 60 mm
Maks. numune kalınlığı: 20 mm
Pompa sistemi: Giriş ve analiz odaları için 2x 260 l/s turbomolekuler pompalar
Amaç
X-ışını Fotoelektron Spektroskopisi (XPS), yüksek bir yüzeye duyarlı, kantitatif, kimyasal analiz tekniğidir. XPS, X ışınları ile ışınlanmış bir malzemenin yüzeyinden çıkarılan fotoelektronların ölçümüdür. Yayılan fotoelektronların kinetik enerjisi doğrudan ana atom içindeki bağlanma enerjileriyle ilişkili olarak ölçülür; bu, elementin ve kimyasal durumunun özelliğidir. Yalnızca yüzeye yakın üretilen elektronlar algılama için çok fazla enerji kaybetmeden kaçabilir; Bu, XPS verilerinin yüzeyin en üstteki birkaç nanometresinden toplandığı anlamına gelir.
Başvuru İçin Tıklayınız