Marka / Model 

Raith Pioneer

 

Özellikler

Filaman tipi: Tungsten, LaB6
Numune seyahat aralığı: 50 x 50 x 25 mm
Işın boyutu (çözünürlük): ≤ 2.5 nm (≤ 1.6 nm)
Minimum özellik boyutu: ≤ 20 nm
İşleme alanı: ≤ 50 (60) nm (m + 2σ)
Kaplama doğruluğu (hizalama): ≤ 50 (60) nm (m + 2σ)
Işın akımı kayması: ≤% 0.5 / 1 saat
Yazma hızı: 2,5 MHz

 

raith

Amaç 

Elektron Işını Litografi (EBL), kullanıcıların nano boyutta yüksek çözünürlükte desenler yazmalarını sağlar. Odaklanmış elektron ışınları, bir CAD dosyasında tanımlanan bir desene göre elektron duyarlı bir polimer ile kaplanmış bir numune üzerinde tarama yapar. Numune daha sonra, polimer içinde tanımlanan yapıları ortaya çıkaran uygun bir çözücü içinde kimyasal işleme maruz bırakılır. Bu sayede nano boyutlu mimariler geliştirilir.